东莞市东弘研磨科技有限公司

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二氧化硅抛光液

东弘  二氧化硅抛光液 是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的多平坦化抛光。如:硅片,化合物晶体,精密光学器材,宝石等的抛光加工.


根据不同在抛光要求,可分为不同粒径(10-150nm)的产品,根据PH不同,可以分为酸性抛光液和碱性抛光液.



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东弘 二氧化硅  产品参数:
1.颜色:白色,              2.PH值:9左右
3.固含量:40%左右       4.密度:1.285
5.粒径分布:110.9         6.粘度:3.65


产品特点:

  1. 高抛光速度,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目地.

  2. 粒度可控,根据不同需求,可生产不同粒度的产品.

  3. 高纯度(Cu含量小于50ppb),有效减小对电子类产品的玷污.

高平坦度加工,本品抛光利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工.


主要用途:配合机械手,曲面抛光机,适用于手机铝中框,卡托,不锈钢,钛合金,蓝宝石,陶瓷高精度抛光.

东弘   二氧化硅

主要优势:硅片的单位去除率可以达到0.9-15um/min,抛光时间需要30分钟/次.二氧化硅含量90%,液循环使用6-7天.

   对比同行:硅片的单位去除率只有1.5-17um/min,一般的只有70%,液循环只有2-3天.


目前使用的企业有比亚迪,长盈精密,伯恩光学等500强企业在合作。20年的行业经验积累。有相关问题,欢迎致电:13686095298

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研磨抛光液_05

研磨抛光液_06

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工厂:东莞市常平镇时代智汇2栋5层

冯彦

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