东莞市东弘研磨科技有限公司

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二氧化硅抛光液

东弘化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。

根据不同的抛光要求可分为不同粒度(10~150 nm)的产品。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。


东弘二氧化硅抛光液的特点:

1、高抛光速度,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目地.

2、粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-150 nm)

3、高纯度(Cu含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污.

高平坦度加工,本品抛光利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工.

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